ITO靶材被廣泛應用于各大行業(yè)之中，其主要應用分為：平板顯示器(FPD)產(chǎn)業(yè)，薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、液晶顯示器(LCD)、電激發(fā)光顯示器(EL)，福建顯示行業(yè)陶瓷靶材、電致有機發(fā)光平面顯示器(OELD)、場發(fā)射顯示器(FED)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產(chǎn)業(yè)，如薄膜太陽能電池;功能性玻璃，如紅外線反射玻璃、抗紫外線玻璃如幕墻玻璃、汽車、飛機上的防霧擋風玻璃、光罩和玻璃型磁盤等三大域。但主要應用于還是在平板顯示器中，福建顯示行業(yè)陶瓷靶材，它是濺射ITO導電薄膜的主要原料，沒有它的存在，諸多的材料將無法實現(xiàn)正常加工以及設計。ITO薄膜由于對可見光透明和導電性良好的性，還被廣泛應用于液晶顯示玻璃，福建顯示行業(yè)陶瓷靶材、幕墻玻璃和飛機、汽車上的防霧擋風玻璃等。

靶材主要由靶坯、背板等部分組成。福建顯示行業(yè)陶瓷靶材

陶瓷靶材的制備工藝烘料:稱量前將起始原料置于烘箱中烘料3~6小時,烘料溫度為100~120℃;配料:將烘干的原料按照相應的化學計量比稱量;球磨:將稱量好的原料以某種制備方式混料,混料時間為4~12小時,制成均勻漿料;干燥:將制得的均勻漿料烘干;煅燒:將烘干的粉料過篩并輕壓成塊狀坯體置于馬弗爐中,在800~950℃煅燒4~8小時,制成煅燒粉料;球磨:將煅燒后的粉料研磨成細粉,再次球磨、烘干得到陶瓷粉料;制坯:將制成的陶瓷粉料采用鋼模手壓成直徑5~20mm、厚度約0.5~1.2mm的樣片,將樣片放入冷等靜壓機中,施加200~350MPa的壓力,保壓60~180s,制成所得陶瓷坯體;燒結:將制成的陶瓷坯體置于馬弗爐中,在1100~1200℃燒結4~6小時;冷卻:自然冷卻至室溫,即制得某種陶瓷靶材.注:提供的溫度、時間只當做參考數(shù)據(jù).陶瓷靶材的特性要求純度:陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大,純度越高,濺射薄膜的均勻性和批量產(chǎn)品的質(zhì)量的一致性越好.密度:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度.成分與結構均勻性:為保證濺射薄膜均勻,尤其在復雜的大面積鍍膜應用中,必須做到靶材成分與結構均勻性好.江西濺射陶瓷靶材廠家薄膜晶體管液晶顯示面板（TFT-LCD）是當前的主流平面顯示技術。

氧化鈮靶材根據(jù)其鍍膜工藝的不同分為平面靶材和旋轉(zhuǎn)靶材兩種,所需的氧化鈮純度均要求達到99.95%,但對氧化鈮的物理性能指標要求不同。平面靶材的生產(chǎn)使用熱壓法,要求氧化鈮粉末粒度細且均勻,成形性能好;旋轉(zhuǎn)靶材采用熱噴涂法生產(chǎn),要求氧化鈮具有良好的流動性及嚴格的粒度范圍。旋轉(zhuǎn)靶材是近些年新發(fā)展的一種靶材,與傳統(tǒng)的平面靶材相比,旋轉(zhuǎn)靶材相對于平面靶材具有很多的優(yōu)點： 1、利用率高（70％以上）,甚至可以達到90％; 2、濺射速度快,為平面靶的2-3倍; 3、有效地減少打弧和表面掉渣,工藝穩(wěn)定性好等優(yōu)點,因此近年來逐步替代了平面靶材。 針對國內(nèi)尚未能生產(chǎn)靶材級高純氧化鈮的現(xiàn)狀,在現(xiàn)有氧化鈮濕法冶金生產(chǎn)工藝的基礎上,以高純鈮液為原料,通過噴霧干燥造粒的方法實現(xiàn)對氧化鈮產(chǎn)品粒度和粒形的控制,制取滿足氧化鈮靶材尤其是氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材生產(chǎn)要求的球形高純氧化鈮產(chǎn)品。產(chǎn)品純度為99.95%、粒形為球形、粒度大小范圍為50-150μm的高純氧化鈮產(chǎn)品。與國外同行生產(chǎn)廠家以高純氧化鈮產(chǎn)品為原料,需經(jīng)過球磨、制漿、造粒、焙燒的工藝流程相比,具有工藝流程簡單,生產(chǎn)成本低,粒度可控,產(chǎn)品成品率高的特點。產(chǎn)品完全能夠滿足生產(chǎn)氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材的要求。

氧化鋁薄膜是一種重要的功能薄膜材料，由于具有較高的介電常數(shù)、高熱導率、抗輻照損傷能力強、抗堿離子滲透能力強以及在很寬的波長范圍內(nèi)透明等諸多優(yōu)異的物理、化學性能，使其在微電子器件、電致發(fā)光器件、光波導器件以及抗腐蝕涂層等眾多領域有著廣的應用。磁控濺射具有濺射鍍膜速度快，膜層致密，附著性好等特點，很適合于大批量，高效率工業(yè)生產(chǎn)等明顯優(yōu)點應用日趨廣，成為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中主要的技術之一。濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場的作用下，對陰極靶材表面進行轟擊，把靶材表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的方向射向基體表面，在基體表面形成鍍層。用這種技術制備氧化鋁膜時一般都以純鋁為靶材，濺射用的惰性氣體通常選擇氬氣(Ar)，因為它的濺射率比較高。用氬離子轟擊鋁靶并通入氧氣，濺射出的鋁離子和電離得到的氧離子沉積到基片上從而得到氧化鋁膜。按磁控濺射中使用的離子源不同，磁控濺射方法有以下幾種：①直流反應磁控濺射；②脈沖磁控濺射；③射頻磁控濺射；④微波-ECR等離子體增強磁控濺射；⑤交流反應磁控濺射等。AZO薄膜是一種透明導電膜，與ITO薄膜相似的光學和電學特性，制備工藝簡單、價格低、無毒和穩(wěn)定性好等特點。

陶瓷靶材是一種重要的濺射靶材，廣泛應用于各個領域的薄膜制備和表面處理。作為一種高純度、高密度的材料，陶瓷靶材具有許多獨特的特點和優(yōu)勢。首先，陶瓷靶材具有優(yōu)異的化學穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性，能夠在高溫和復雜的化學環(huán)境下保持穩(wěn)定的性能。這使得陶瓷靶材在各種薄膜制備過程中能夠提供穩(wěn)定的材料源，確保薄膜的質(zhì)量和性能。其次，陶瓷靶材具有良好的機械性能和熱導性能。這使得陶瓷靶材在濺射過程中能夠承受高能量的離子轟擊和高溫的熱沖擊，不易發(fā)生破裂和變形。同時，陶瓷靶材的高熱導性能能夠有效地散熱，保持靶材表面的穩(wěn)定溫度，提高濺射過程的效率和穩(wěn)定性。此外，陶瓷靶材具有優(yōu)異的光學性能和電學性能。不同種類的陶瓷靶材具有不同的光學和電學特性，可以根據(jù)具體需求選擇合適的靶材。例如，氧化物靶材可以用于制備透明導電膜、光學薄膜和光學器件，而金屬靶材可以用于制備導電膜和磁性薄膜。陶瓷靶材具有豐富的種類和規(guī)格，能夠滿足不同行業(yè)和應用的需求。無論是光學薄膜、電子器件還是太陽能電池，陶瓷靶材都能提供高質(zhì)量的材料源，幫助客戶實現(xiàn)產(chǎn)品的優(yōu)化和創(chuàng)新。我們公司致力于提供高質(zhì)量的陶瓷靶材產(chǎn)品，滿足客戶的需求，推動行業(yè)的發(fā)展和進步。靶材安裝注意事項靶材安裝過程中非常重要的是一定要確保在靶材和濺射腔體冷卻壁之間建立很好的導熱連接。上海氧化物陶瓷靶材廠家

陶瓷靶材按化學組成,分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物靶材和硫化物靶材等。福建顯示行業(yè)陶瓷靶材

制備一種同質(zhì)雙層氧化鉿減反膜，屬于光學薄膜技術領域。本發(fā)明在透明或半透明基底上依次沉積高折射率的致密氧化鉿層和低折射率的多孔氧化鉿層。兩層氧化鉿的折射率由電子束蒸鍍的入射角度控制，厚度根據(jù)基底不同而調(diào)節(jié)。本發(fā)明采用電子束蒸鍍方法，并且雙層減反膜由同種材料制成，制備成本低、效率高。該雙層氧化鉿減反膜對于可見光范圍內(nèi)的多角度入射光均具有很好的減反增透能力，可用于降低窗板、觸屏電極或液晶顯示屏等表面的反射，具有廣的應用前景。福建顯示行業(yè)陶瓷靶材

江蘇迪納科精細材料股份有限公司正式組建于2011-07-22，將通過提供以濺射靶材，陶瓷靶材，金屬靶材，等離子噴涂靶材等服務于于一體的組合服務。迪納科材料經(jīng)營業(yè)績遍布國內(nèi)諸多地區(qū)地區(qū)，業(yè)務布局涵蓋濺射靶材，陶瓷靶材，金屬靶材，等離子噴涂靶材等板塊。我們在發(fā)展業(yè)務的同時，進一步推動了品牌價值完善。隨著業(yè)務能力的增長，以及品牌價值的提升，也逐漸形成電子元器件綜合一體化能力。值得一提的是，迪納科材料致力于為用戶帶去更為定向、專業(yè)的電子元器件一體化解決方案，在有效降低用戶成本的同時，更能憑借科學的技術讓用戶極大限度地挖掘迪納科,迪丞,東玖,靶材的應用潛能。