選擇氦質(zhì)譜檢漏儀時(shí)主要考慮以下問(wèn)題：1、儀器的功能能滿足檢漏的要求。如有些儀器沒(méi)有逆流檢漏功能，就不適合檢漏；有些儀器沒(méi)有報(bào)廢漏率的設(shè)置功能，不宜作為批量產(chǎn)品篩選檢漏用；流水線上要求一定的檢漏速度，此時(shí)應(yīng)選擇有雙工位的檢漏儀。2、儀器的靈敏度能滿足檢漏的要求。國(guó)內(nèi)外生產(chǎn)的不同類型的氦質(zhì)譜檢漏儀的靈敏度是不一樣的，如果檢漏要求的靈敏度較高，就要認(rèn)真選擇。3、被檢件如果害怕油的污染，就應(yīng)選擇無(wú)油真空系統(tǒng)的檢漏儀。4、被檢件容積如果較大，必須選用抽泵抽速大的檢漏儀，否則就要外加預(yù)抽泵。氦質(zhì)譜檢漏技術(shù)是真空檢漏領(lǐng)域里不可缺少的一種技術(shù)。嘉興全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀原理

使用氦檢儀需注意哪些問(wèn)題？響應(yīng)時(shí)間與清理時(shí)間:正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間與清理時(shí)間不應(yīng)大于3s。氦檢儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度:檢漏時(shí)噴有在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍,該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間,即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。根據(jù)經(jīng)驗(yàn),兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s,如果第1次噴氦后30s內(nèi)氦檢儀還沒(méi)有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。儀器的清理時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同,但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清理時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。另外,噴氦量的多少也影響清理時(shí)間的長(zhǎng)短,噴氦時(shí)噴頭移動(dòng)速率合理,可以縮短儀器的清理時(shí)間,提高檢漏效率。紹興客制化氦質(zhì)譜檢漏儀多少錢(qián)氦檢儀的型號(hào)較多，但基本結(jié)構(gòu)大同小異。

氦檢儀是什么？氦檢儀是用氦氣為示漏氣體的專門(mén)用于檢漏的儀器，它具有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點(diǎn)。是真空檢漏技術(shù)中靈敏度較高，用得較普遍的氦檢儀器。氦檢儀是磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計(jì)。單級(jí)磁偏轉(zhuǎn)型儀器普遍地用于各種真空系統(tǒng)及零部件的檢漏。雙級(jí)串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級(jí)磁偏轉(zhuǎn)型儀器相比較，本底噪聲明顯減小。適用于超高真空系統(tǒng)、零部件及元器件的檢漏。氦檢儀由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。

氦檢儀因具備檢測(cè)靈敏度高、反應(yīng)速度快、定位定量準(zhǔn)確等優(yōu)點(diǎn)而被普遍應(yīng)用于壓力容器、航空航天、原子能、發(fā)電廠、制冷工業(yè)等領(lǐng)域。氦檢儀在使用過(guò)程中，往往會(huì)因?yàn)楫a(chǎn)生的一些故障或是現(xiàn)象，而影響檢漏工作的正常進(jìn)度，若對(duì)其置之不理還會(huì)危及氦檢儀的使用壽命。其中的有些故障或現(xiàn)象是使用者能夠及時(shí)解決或避免的，掌握和了解氦檢儀常見(jiàn)故障的維修技術(shù)，有利于檢漏工作的順利開(kāi)展以及設(shè)備的保養(yǎng)。氦檢儀熱管檢漏：熱管需要檢漏原因：熱管內(nèi)部填充特殊液體用來(lái)增強(qiáng)熱傳導(dǎo)性能，如果熱管本身存在漏點(diǎn)，首先會(huì)影響熱管的導(dǎo)熱性能；其次由于熱管都是安裝在設(shè)備內(nèi)部，如果發(fā)生泄漏，里面封裝的液體就會(huì)流出，嚴(yán)重污染和影響設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)，所以熱管生產(chǎn)企業(yè)，都會(huì)采用氦檢儀對(duì)熱管進(jìn)行檢漏。氦質(zhì)譜檢漏儀可以對(duì)具有內(nèi)腔的微電子或半導(dǎo)體器件封裝的氣密性進(jìn)行細(xì)檢漏。

氦檢儀應(yīng)用領(lǐng)域：工業(yè)：真空爐、鍍膜系統(tǒng)、壓力容器、超高真空工程。高能物理：加速器、束線、同步輻射光源?？蒲蓄I(lǐng)域：空間模擬系統(tǒng)、試驗(yàn)裝置、微電子、表面分析系統(tǒng)。半導(dǎo)體及電子：工藝設(shè)備、氣路、氣路傳輸設(shè)備、電子元器件、封裝。汽車(chē)制冷：蒸發(fā)器、空調(diào)、管路。核工業(yè)：核電閥門(mén)、核容器。航空航天：空間模擬器、航天器、管路。電廠：管道、蒸汽發(fā)生器、熱交換器、冷凝器。氦檢儀是對(duì)密封容器的泄漏進(jìn)行快速定位和定量測(cè)量的儀器。氦質(zhì)譜檢漏方法與氣泡識(shí)別法、壓強(qiáng)衰減法和鹵素檢漏等方法相比，具有檢測(cè)靈敏度高、速度快和適用范圍寬，此外氦檢儀選擇無(wú)毒、無(wú)破壞性、質(zhì)量輕的惰性氣體氦作為探索氣體，所以安全可靠。氦檢儀本底漏率值是什么？嘉興推車(chē)式氦質(zhì)譜檢漏儀使用方法

氦檢儀的實(shí)際應(yīng)用方案很多，常用的三種檢漏方法有負(fù)壓法（抽真空），正壓法（吸入法）和背壓法（壓氦法）。嘉興全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀原理

氦檢儀現(xiàn)已普遍應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備檢漏。半導(dǎo)體設(shè)備及材料需要檢漏原因：1、半導(dǎo)體設(shè)備要求高真空，比如磁控濺射臺(tái)、電子束蒸發(fā)臺(tái)、ICP、PECVD等設(shè)備。出現(xiàn)泄漏就會(huì)導(dǎo)致高真空達(dá)不到或需要大量的時(shí)間，耗時(shí)耗力；2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周?chē)h(huán)境中的灰塵和懸浮顆?；驂m埃就會(huì)對(duì)晶元造成污染，對(duì)半導(dǎo)體的特性改變并破壞其性能，因此在半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中必須進(jìn)行氦質(zhì)譜檢漏；3、一些半導(dǎo)體設(shè)備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過(guò)氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設(shè)備能及時(shí)抽走未反應(yīng)氣體和氣態(tài)反應(yīng)產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會(huì)失效。綜上所述，氦檢儀在半導(dǎo)體行業(yè)起著至關(guān)重要的作用。嘉興全自動(dòng)氦質(zhì)譜檢漏儀原理