久久性妇女精品免费,狠狠色丁香婷婷久久综合考虑,亚洲一区二区三区四区视频,手机看片福利国产,99热精品成人免费观看 ,综合久久久久久久综合网,青草青青在线视频

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機(jī)，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐，所述磷酸儲(chǔ)罐的底部固定連接有攪拌倉(cāng)，所述攪拌倉(cāng)的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī)，所述攪...

本實(shí)用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機(jī)的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù)：請(qǐng)參閱圖1所示，為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖，其中一實(shí)心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)(圖式未標(biāo)示)內(nèi)，主要用以阻擋一蝕刻藥液(圖式未標(biāo)示)對(duì)設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)a下方的基板(圖式未標(biāo)示)的噴濺而造成蝕刻不均勻的現(xiàn)象，并且在濕式蝕刻的制程步驟中，該基板設(shè)置于二風(fēng)刀b之間，當(dāng)該基板設(shè)置于一輸送裝置(圖式未標(biāo)示)而由該擋液板結(jié)構(gòu)a的左方接受蝕刻藥液蝕刻后移動(dòng)至風(fēng)刀b之間，該等風(fēng)刀b再噴出一氣體c到該基板的表面以...

本實(shí)用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來(lái)，人們對(duì)半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時(shí)，對(duì)于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來(lái)越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制造工藝的好壞，影響高密度細(xì)導(dǎo)線圖像的精度和質(zhì)量，為了解決蝕刻液組合物蝕刻鋁材料過程中，對(duì)蝕刻速率慢、難以控制蝕刻角度和不同金屬層的蝕刻量而造成的多層配線的半導(dǎo)體裝置的配線的斷路、短路，得到較高的成品率，為保證其穩(wěn)定性及蝕刻的平滑度及精度，在蝕刻液中需要加入多種組分，而常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合?，F(xiàn)有的高蝕刻速率...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中...

本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進(jìn)行回收處理，目前通用的做法是，使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯，有二次污染污染物排放，一旦處理不當(dāng)往外排放，勢(shì)必對(duì)水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場(chǎng)上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡(jiǎn)單的對(duì)蝕刻液進(jìn)行回收處理，不能對(duì)蝕刻液進(jìn)行循環(huán)電解，使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分，而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會(huì)對(duì)電解池造成沖擊，進(jìn)而影響電解池的使用壽命，并且在回收處理中會(huì)產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境，也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理，...

12、伸縮桿；13、圓環(huán)塊；14、連接桿；15、回流管；16、增壓泵；17、一號(hào)排液管；18、一號(hào)電磁閥；19、抽氣泵；20、排氣管；21、集氣箱；22、二號(hào)排液管；23、二號(hào)電磁閥；24、傾斜板；25、活動(dòng)板；26、蓄水箱；27、進(jìn)水管；28、抽水管；29、三號(hào)電磁閥；30、控制面板。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-5，本發(fā)明提供一種技術(shù)方...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí)，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中...

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機(jī)，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲(chǔ)罐，所述磷酸儲(chǔ)罐的底部固定連接有攪拌倉(cāng)，所述攪拌倉(cāng)的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機(jī)，所述攪...

所述液位計(jì)連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)視鏡。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述液位計(jì)安裝于所述分離器的外表面。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述液位開關(guān)為控制閥，設(shè)置于所述濾液出口處。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述加熱器為盤管式加熱器。在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述分離器底部為錐體形狀。上述，利用加熱器對(duì)含銅蝕刻液進(jìn)行加熱，使其達(dá)到閃蒸要求的溫度，將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器，經(jīng)過減壓閥及真空泵減壓，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴，通過除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出，減小產(chǎn)品損失。附圖說(shuō)明圖1是本實(shí)施例...

使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間，避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi)，有效的提高了裝置使用的密封性；緊接著，將磷酸與醋酸在個(gè)攪拌倉(cāng)23中充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆?，然后在第二個(gè)攪拌倉(cāng)23中與硝酸充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆蚝螅龠M(jìn)入配料罐中混合，將陰離子表面活性劑和聚氧乙烯型非離子表面活性劑在第三個(gè)攪拌倉(cāng)23混合后再進(jìn)入第四個(gè)攪拌倉(cāng)23中，與氯化鉀、硝酸鉀、去離子水一起在第四個(gè)攪拌倉(cāng)23中混合均勻，然后過濾后封裝，先檢查過濾板26進(jìn)行更換或安裝，過濾部件9的內(nèi)部?jī)蓚?cè)嵌入連接有過濾板26，常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差，蝕刻液雜質(zhì)含量多，過濾板26能將蝕刻...

更推薦滿足。參照?qǐng)D4，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)即aeff為2以上，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜損傷不良**少化。在上述添加劑的aeff值處于上述范圍內(nèi)的情況下，上述添加劑可以具有適宜水平的防蝕能力，由此，即使沒有消耗費(fèi)用和時(shí)間的實(shí)際的實(shí)驗(yàn)過程，也能夠選擇具有目標(biāo)防蝕能力的硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑。本發(fā)明的上述硅烷系偶聯(lián)劑等添加劑推薦按照保護(hù)對(duì)...

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21，裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11，裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9，裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8，收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7，過濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24，過濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27，連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的，硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22，在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入...

對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。實(shí)施例一，請(qǐng)參閱圖1-4，本實(shí)用新型提供技術(shù)方案：高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體1、支撐腿2、電源線3和單片機(jī)4，裝置主體1的底端固定連接有支撐腿2，裝置主體1的后面一側(cè)底部固定連接有電源線3，裝置主體1的一側(cè)中間部位固定連接有控制器5，裝置主體1的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機(jī)4，裝置主體1的頂部一端固定連接有去離子水儲(chǔ)罐14，裝...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對(duì)內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)和，由于熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng)，濺出容易傷害工作人員，通過設(shè)置熱水流入漏斗9，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度，很好的起到了保護(hù)作用。推薦的，裝置底座5的內(nèi)部?jī)蓚?cè)緊密焊接有加固支架10，由于制備裝置為一體化裝置，承載設(shè)備較多，質(zhì)量較重，對(duì)底座會(huì)產(chǎn)生較大的壓力，通過設(shè)置加固支架...

裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21，裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11，裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件9，裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8，收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門7，過濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24，過濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27，連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28，連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的，硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22，在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入...

ITO蝕刻液的分類：已經(jīng)使用的蝕刻液類型有六種類型：酸性氯化銅、堿性氯化銅、氯化鐵、過硫酸銨、硫酸/鉻酸、硫酸/雙氧水蝕刻液。酸性氯化銅，工藝體系，根據(jù)添加不同的氧化劑又可細(xì)分為氯化銅+空氣體系、氯化銅+氯酸鈉體系、氯化銅+雙氧水體系三種蝕刻工藝，在生產(chǎn)過程中通過補(bǔ)加鹽酸+空氣、鹽酸加氯酸鈉、鹽酸+雙氧水和少量的添加劑來(lái)實(shí)現(xiàn)線路板板的連續(xù)蝕刻生產(chǎn)。ITO蝕刻液由氟化銨、草酸、硫酸鈉、氫氟酸、硫酸、硫酸銨、甘油、水組成。江蘇TIO去膜液生產(chǎn)商ITO顯影劑就是一種納米導(dǎo)光性能的材料合成的。蝕刻液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好？綿陽(yáng)銅鈦蝕刻液蝕刻液費(fèi)用 上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于，選擇上述硅烷...

也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置，包括裝置主體，所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板，所述承載板上端表面放置有電解池，所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜，所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進(jìn)液漏斗，所述進(jìn)液漏斗上設(shè)置有過濾網(wǎng)，所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進(jìn)液管，所述進(jìn)液管左端連接有伸縮管，所述伸縮管下端安裝有噴頭，所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸，所述液壓缸下端安裝有伸縮桿，所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊，所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿，...

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí)，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物...

當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí)，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng)，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象，亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題；此外，為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題，因此，該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小，例如：孔徑a0小于3mm，即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用，亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與...

可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來(lái)回輕輕刷動(dòng)，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；或者也可以用搖床，使藥水來(lái)回動(dòng)運(yùn)，使板蝕刻速度加快。但不能超聲波，以免破壞（感光）油墨。參考數(shù)據(jù)：50℃→5分鐘→0.1毫米深度。30℃→20分鐘→0.1毫米深度。3、水洗后做后續(xù)處理。蝕刻液的配方是什么？安徽哪家蝕刻液蝕刻液批量定制 技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的目的在于提供高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提...

負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征，上述氧化物膜推薦包含sio2，上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序，能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑，在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí)，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物...

制備裝置主體1的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置2，制備裝置主體1的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板4，制備裝置主體1的底端固定連接有裝置底座5，裝置底座5的內(nèi)部底部固定連接有成品罐6，裝置底座5的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐7，裝置底座5的頂端另一側(cè)固定連接有硝酸裝罐8，高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部中間部位活動(dòng)連接有旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12，高效攪拌裝置2的內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)活動(dòng)連接有震蕩彈簧件14，震蕩彈簧件14的頂端固定連接有運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13，運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13的頂端電性連接有控制面板15，高效攪拌裝置2的內(nèi)部中間部位固定連接有致密防腐桿16，致密防腐桿16的內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)貫穿連接有攪動(dòng)孔17，鹽酸裝罐7的內(nèi)...

推薦的，所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜。推薦的，所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，內(nèi)部頂部?jī)蓚?cè)的震蕩彈簧件，震蕩彈簧件頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組，運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組頂端的控制面板，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔共同組合而成。推薦的，所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口，嵌入引流口一端的負(fù)壓引流器，負(fù)壓引流器一端的注入量控制容器，注入量控制容器內(nèi)部?jī)?nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本種實(shí)用新型的有益效果是:1.通過設(shè)置高效攪拌裝置，該裝置通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動(dòng)高效攪...

618光電行業(yè)ITO**蝕刻液,專門針對(duì)氧化銦錫(ITO)玻璃導(dǎo)電薄膜鍍層圖線的脫膜蝕刻,它對(duì)于高阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)以及低阻抗ITO玻璃導(dǎo)電膜(PET-ITO)都且有優(yōu)良的蝕刻速度與效果。具有速度快、側(cè)蝕小、無(wú)沉淀、氣味小、不攻擊抗蝕層,不攻擊基材,操作控制簡(jiǎn)便靈活等非常***的優(yōu)點(diǎn),可采取自動(dòng)控制系統(tǒng)補(bǔ)加,也可人工補(bǔ)加方式。更重要的是絲毫不改變產(chǎn)品的導(dǎo)電阻抗電性數(shù)據(jù)。二、產(chǎn)品特點(diǎn)1)速度快市場(chǎng)之一般ITO蝕刻液速度大都在0.5nm/s,而KBX-618AITO蝕刻液蝕刻速度正?？刂圃?-10nm/s,速度快(具體設(shè)備情況有所差異)2)氣味小、無(wú)煙霧、對(duì)皮膚刺激*目前市場(chǎng)蝕...

因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會(huì)過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題。美國(guó)公開**第2號(hào)公開了在3dnand閃存的制造工序中，對(duì)于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而，為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度，不得不需要測(cè)試蝕刻液組合物的蝕刻性能，實(shí)際情況是，與上述同樣，仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1：美國(guó)公開**第2號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明，其目的在于，提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物，所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)...

且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進(jìn)行拆卸更換，有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，連接構(gòu)件，連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉(cāng)的底部，連接構(gòu)件與攪拌倉(cāng)固定連接，連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定，且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作，有效的提高了裝置連接的實(shí)用性。附圖說(shuō)明圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型的過濾部件剖視圖；圖3為本實(shí)用新型的連接構(gòu)件剖視圖；圖4為本實(shí)用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中：1、裝置主體，2、支撐腿，3、電源線，4、單片機(jī)，5、控制器，6、防滑紋，7、密封閥門(z45x-16...

鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示：鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品，STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品，添加劑，輔助化學(xué)品，對(duì)于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果，在長(zhǎng)效性的表現(xiàn)上更是無(wú)話可說(shuō).在化學(xué)特性上，鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊，本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解，故無(wú)須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來(lái)調(diào)整蝕刻速率，所以本化學(xué)品對(duì)于初次使用者來(lái)說(shuō)，是簡(jiǎn)單容易上手。質(zhì)量好的做蝕刻液的公司。合肥銅蝕刻液蝕刻液推薦貨源 通過滑動(dòng)蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑...

以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部，該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41，以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42，其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20，以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向，以使該基板20上該藥液51減少，其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3，且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外，請(qǐng)一并參閱圖8與圖9所示，為本實(shí)用新型蝕...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4，所述除霧組件3用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱，達(dá)到閃蒸要求的溫度，輸送至分離器，通過減壓閥12減壓，真空泵13對(duì)分離器內(nèi)抽氣，使分離器內(nèi)處于低壓狀態(tài)，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，閃蒸產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴，大液滴中含有銅，通過除霧組件3和除沫組件4對(duì)蒸汽進(jìn)行分離過濾，也可以防止大液滴從蒸汽出口5飛出，減少產(chǎn)品損失。在一個(gè)實(shí)施例中，如圖1所示，所述除霧組件3為設(shè)有多個(gè)平行且曲折的通道的折流...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對(duì)內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)和，由于熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng)，濺出容易傷害工作人員，通過設(shè)置熱水流入漏斗9，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度，很好的起到了保護(hù)作用。推薦的，裝置底座5的內(nèi)部?jī)蓚?cè)緊密焊接有加固支架10，由于制備裝置為一體化裝置，承載設(shè)備較多，質(zhì)量較重，對(duì)底座會(huì)產(chǎn)生較大的壓力，通過設(shè)置加固支架...