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光束質(zhì)量光斑分析儀操作

來源: 發(fā)布時間:2025-04-25

Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標(biāo)準(zhǔn):狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù),突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制,切換時間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應(yīng),量子效率達 85%; AI 驅(qū)動的光斑模式識別算法,率達 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試,測量重復(fù)性達 ±0.5%,結(jié)合工業(yè)級防護設(shè)計,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認(rèn)證,滿足嚴(yán)苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認(rèn)證。光斑分析儀維護成本?維度光電遠程指導(dǎo)維修,降低 80% 人工成本。光束質(zhì)量光斑分析儀操作

光斑分析儀

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機式技術(shù),實現(xiàn)亞微米至毫米級光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機式提供 400-1700nm 響應(yīng),實現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評估光束質(zhì)量。軟件提供自動化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)化,通過 CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。光斑位置光斑分析儀費用是多少高功率激光光束質(zhì)量怎么測?

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維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術(shù)平臺: 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實現(xiàn) XY 軸同步掃描,結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級光斑檢測極限。光學(xué)系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器,配合高斯擬合算法,實現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復(fù)性。 相機式成像系統(tǒng):搭載背照式 CMOS 傳感器(量子效率 95%@500-1000nm),結(jié)合非球面透鏡組消除畸變,支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術(shù),捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子,測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破: 狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術(shù)支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常(率 97.2%)

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊,可對聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴展 M2 測試功能,實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。極小光斑測量的光斑分析儀。

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維度光電光束質(zhì)量測量解決方案應(yīng)用場景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實時監(jiān)測,優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;M2 因子模塊校準(zhǔn)醫(yī)用激光設(shè)備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測量加速非線性光學(xué)實驗進展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測。 新興領(lǐng)域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動作物改良。 優(yōu)勢: 全場景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機式(脈沖 / 復(fù)雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動識別光斑異常,生成標(biāo)準(zhǔn)化報告。 模塊化擴展:支持 M2 因子測試、寬光譜適配等功能升級。光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;相機光斑分析儀光斑測試

光斑分析儀與M2測試模塊組合,實現(xiàn)對光束傳播方向的發(fā)散角、M2因子、聚焦直徑等測量。光束質(zhì)量光斑分析儀操作

選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場景及功能需求: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米級光斑(如半導(dǎo)體加工)優(yōu)先選擇狹縫式(支持 2.5μm 精度),毫米級光斑(如激光焊接)推薦相機式(覆蓋 10mm 量程)。 功率等級:高功率激光(如工業(yè)切割)應(yīng)選狹縫式(直接測量近 10W),微瓦級弱光(如科研實驗)可采用相機式(通過 6 片衰減片適配)。 光束形態(tài):高斯或規(guī)則光斑兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟),非高斯光束(如貝塞爾光束)需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性:單脈沖分析選相機式(觸發(fā)同步),連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式(需匹配掃描頻率)。 2. 應(yīng)用場景適配 工業(yè)制造:高功率加工(>1W)選狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準(zhǔn)選相機式,組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備:眼科準(zhǔn)分子激光需相機式實時監(jiān)測能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式,確保手術(shù)精度。 :超短脈沖測量、復(fù)雜光束分析(如 M2 因子)依賴相機式,材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信:光纖端面檢測選相機式分析光斑形態(tài),激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。光束質(zhì)量光斑分析儀操作

標(biāo)簽: 光斑分析儀